PLAN11 出口自冲洗

介质由泵的出口经管线进入机械密封实施冲洗。

适用情况：

1. 清洁介质(介质本身须清洁)
2. 介质温度不高于110℃
3. 泵进出口间的压差不能大于10Bar（大于10Bar，则需设节流阀）

PLAN13 入口自冲洗

介质由入口经管线进入机封实现液体的循环流动。

适用情况：

1. 泵进出口压力差大于10Bar
2. 清洁介质
3. 介质温度不高于110℃

PLAN21 出口冷却自冲洗

介质由泵的出口经冷却器降温后，再进入机械密封，实现对密封的冷却。

适用情况：

1. 介质温度高于110℃
2. 清洁介质

PLAN52 不加压冷却方式

利用压力小于工艺流体压力但不低于大气压力的阻隔流体，注入密封室中。由于隔流体压力小于工艺流体压力，少量工艺流体泄漏至阻隔流体中，被阻隔流体出密封室，到密封系统或放空系统中进行处理，从而避免工艺流体的直接排放大气和环境的污染。

技术要求:

1. 低压阻隔流体防止渗漏，但阻隔液压力不得低于0.7公斤／厘米
2. 阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3. 阻隔流体的流向应与轴的旋向相同

适应场合:

1. 低沸点、易汽化的介质
2. 危险品
3. 不允许介质被污染的制药行业

PLAN53 加压冷却方式

利用压力大于工艺流体和大气压力的阻隔流体注入密封室中，由于阻隔流体压力大于工艺流体压力，防止了工艺流体向阻隔流体的泄漏，从而有效地防止工艺流对大气和环境的污染。

技术要求:

1. 阻隔流体压力至少比密封腔压力高1—2公斤／厘米
2. 阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3. 阻隔流体的流向应与轴的旋向相同

适应场合:

1. 易结晶或固化的介质
2. 易聚合介质
3. 常温含颗粒的介质

PLAN54 加压冷却方式

利用加压泵给阻隔流体加压，压力比工艺流体压高1—2公斤／厘米，一方面，提高阻隔流体的循环速度，加快对密封面的冷却；另一方面，阻止工艺流体通过内侧密封向阻隔流体系统的泄漏，避免工艺流体对大气和环境的污染。

技术要求:

1. 阻隔流体压力比密封腔内工艺流体压力高1—2公斤／厘米
2. 阻隔流体须清洁，润滑，且和介质相溶
3. 阻隔流体的流向应与轴的旋向相同

适应场合:

1. 高温含颗粒的介质
2. 热流体
3. 低温介质